產(chǎn)品詳情
模塊化的 SEM 平臺(tái)適用于直觀操作、例行檢測(cè)和研究應(yīng)用
EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起， 同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學(xué)， 材料科學(xué)， 或例行的工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析領(lǐng)域，憑借廣泛的可選配置， EVO 都可以根據(jù)您的要求量身定制。
顯微鏡中心或工業(yè)質(zhì)量保證實(shí)驗(yàn)室的多功能解決方案
不同的真空室大小和可滿足所有應(yīng)用要求的載物臺(tái)選項(xiàng)-甚至是大型工業(yè)零部件樣品
使用LaB6燈絲，能夠得到優(yōu)異的圖像質(zhì)量
對(duì)不導(dǎo)電和無導(dǎo)電涂層的樣品的成像和分析性能出色
可以配置多種分析探測(cè)器用于滿足各種顯微分析應(yīng)用的需求
SmartSEM Touch可以通過使用您的指尖與其進(jìn)行交互式工作流程控制。它簡(jiǎn)單易學(xué)， 大大減少了培訓(xùn)所付出的努力和成本，甚至新用戶在幾分鐘內(nèi)也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶界面還支持需要自動(dòng)化工作流程以執(zhí)行可重復(fù)檢查任務(wù)的工業(yè)操作員。 |  優(yōu)異的圖像質(zhì)量
EVO 擅長(zhǎng)于對(duì)未經(jīng)處理和沒有導(dǎo)電涂層的樣品獲取高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。EVO 還允許樣品保留其原始狀態(tài)， 維持含水和重污染樣品的數(shù)據(jù)質(zhì)量。此外當(dāng)成像和微量分析面臨挑戰(zhàn)時(shí)，選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、 對(duì)比度和信噪比。
|  EVO 能夠與其它設(shè)備相關(guān)聯(lián)
EVO可以作為半自動(dòng)、多模式工作流程的一部分，通過重新定位感興趣區(qū)域，并以多種方式收集數(shù)據(jù)，形成信息的完整性。將光學(xué)和電子顯微鏡圖像合并起來進(jìn)行材料表征或零件檢驗(yàn)，或者將 EVO 與蔡司光學(xué)顯微鏡相關(guān)聯(lián)，進(jìn)行關(guān)聯(lián)顆粒度分析。 |
適合更多用戶操作
對(duì)于經(jīng)驗(yàn)豐富的以及新手用戶操作都很方便
在實(shí)際的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中，SEM 的操作通常是顯微鏡專家的專屬領(lǐng)域。但是對(duì)于非專家級(jí)用戶來說，操作SEM就變得具有挑戰(zhàn)，比如學(xué)生、受訓(xùn)者或質(zhì)量工程師，他們往往也需要從 SEM獲取數(shù)據(jù)。 EVO 則同時(shí)考慮了這兩類用戶的需求，用戶界面選項(xiàng)既能滿足有經(jīng)驗(yàn)的顯微鏡專家也能滿足非專業(yè)用戶的操作需要。
蔡司EVO應(yīng)用案例：制造與裝配工業(yè)
典型任務(wù)與應(yīng)用
■質(zhì)量分析1質(zhì)量控制
■失效分析/金相研究
■清潔度檢驗(yàn)
■對(duì)顆粒進(jìn)行形態(tài)和化學(xué)分析，以符合ISO 16232 和VDA 19 part 182的標(biāo)準(zhǔn)
■非金屬夾雜物分析
蔡司EVO的優(yōu)點(diǎn)
■通過三種不同規(guī)格的樣品室提高樣品靈活性;更大樣品重量可達(dá)5kg;樣品的高度和寬度分別可達(dá)210 mm和300 mm
■智能成像和自動(dòng)化工作流程可以實(shí)現(xiàn)高效的用戶交互
■針對(duì)每類樣品優(yōu)化設(shè)置
■適用于非導(dǎo)電復(fù)合材料、纖維、聚合物和織物成像的可變壓力(VP) 技術(shù)
■使用C2D二次電子探測(cè)器完成可變壓力成像，以提高數(shù)據(jù)質(zhì)量
■用于形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識(shí)別解決方案(SmartPI)
蔡司EVO應(yīng)用案例：鋼和其它金屬
典型任務(wù)與應(yīng)用
■結(jié)構(gòu)的成像和分析，金屬樣品和夾雜物的化學(xué)特性與晶體結(jié)構(gòu)
■相、顆粒度、焊點(diǎn)和失效分析
蔡司EVO的優(yōu)點(diǎn)
使用EVO性能出眾的背散射電子(BSE)探測(cè)器獲取鐵素體鋼、奧氏體鋼、馬氏體鋼或二聯(lián)鋼和合金的清晰組分與晶體信息。
充分利用易操作的樣品室門和穩(wěn)固耐用的樣品臺(tái)來加裝拉力試驗(yàn)機(jī)、納米壓痕儀和加熱模塊，以實(shí)現(xiàn)金屬樣品的精細(xì)表征。
EVO出色的EDS幾何設(shè)計(jì)可用于完成高作業(yè)量、高精度的X射線分析。此外，其靈活的端口配置能為EBSD創(chuàng)建共面幾何結(jié)構(gòu),用以進(jìn)行晶界、相識(shí)別及應(yīng)變與滑移系統(tǒng)活動(dòng)的微觀結(jié)構(gòu)表征。
出色的光束穩(wěn)定性可用于在大面積樣品上進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間EDS和EBSD采集，以確保始終如一地提供可靠且可重復(fù)的結(jié)果。
蔡司EVO應(yīng)用案例：半導(dǎo)體與電子元器件
典型任務(wù)與應(yīng)用
■電子元器件、集成電路、MEMS裝置和太陽能電池的光學(xué)檢測(cè)
■銅線表面和晶體結(jié)構(gòu)檢測(cè)
■金屬腐蝕檢測(cè)
■橫截面失效分析
■焊腳檢測(cè)
■電容器表面成像
蔡司EVO的優(yōu)點(diǎn)
BSE和C2D等一系列探測(cè)器，可在VP模式下對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行超高襯度形貌和組分成像，無充電假象。
可選的電子束減速系統(tǒng)能夠在更低加速電壓下提供超高分辨率，允許您觀察太陽能電池和集成電路的真實(shí)表面細(xì)節(jié)。
EVO的靈活性使其可以運(yùn)用大量第三方的測(cè)量與分析模塊，包括EBIC和納米探針，用以進(jìn)行p-n結(jié)表征和集成電路失效分析。
蔡司EVO應(yīng)用案例:材料科學(xué)研究
典型任務(wù)與應(yīng)用
■在研究應(yīng)用中表征導(dǎo)電和非導(dǎo)電材料樣品
蔡司EVO的優(yōu)點(diǎn)
EVO可用于安裝一系列成像探測(cè)器。在裝備SE和BSE探測(cè)器、束流減速裝置及共面EDS和EBSD幾何結(jié)構(gòu)后，EVO將成為一-款靈活的材料分析用研究工具。
快速簡(jiǎn)便地在高真空和可變壓力模式之間進(jìn)行切換，進(jìn)行導(dǎo)電和非導(dǎo)電樣品檢測(cè)。
先進(jìn)的蔡司探測(cè)器技術(shù)，包括級(jí)聯(lián)電流探測(cè)器(C2D)和擴(kuò)展級(jí)聯(lián)電流探測(cè)器(C2DX),可在擴(kuò)展壓力模式和水蒸氣環(huán)境下操作，完成聚合物、塑料、纖維和復(fù)合物的出色成像。
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